- Device
- Technische Universität Darmstadt
Alcatel 4“ Sputtering machine
- Materialwissenschaften
- Structuring and Processing of Materials
- Gerätetyp
- Sputteranlage
- Gerätebezeichnung
- Alcatel 4“ Sputtering machine
- Geräteausführung
- Wafer-Sputteranlage
Gerätebeschreibung
4x4“ Wafers; Lade-Magnetarm und Schleuse; Cr; Cu; Al; SiO2; Ni.
Einsatzbereich
Metallisierung von 4“ Wafern.
