- Device
- Technische Universität Darmstadt
Oxford Instruments Plasmalab 100
- Materialwissenschaften
- Additive Manufacturing – State‑of‑the‑art Production Technology and Materials Analytics
- Gerätetyp
- Aufdampfanlage
- Gerätebezeichnung
- Oxford Instruments Plasmalab 100
- Geräteausführung
- PECVD- ICP
Gerätebeschreibung
PECVD mit ICP mit den Prozessgasen Ar, CH₄, He, N₂, Silan, SF₆, NO.
Einsatzbereich
Abscheiden von Schichten wie zu Beispiel SiO, SiN und SiC bei 80°C.
